在半导体与光伏电池生产的扩散（Diffusion）、低压化学气相沉积（LPCVD）、等离子增强型化学气相沉积（PECVD）、金属有机化学气相沉积（MOCVD）、刻蚀（Etch）、外延（EPI）等关键工序中，会产生Cl₂、HCl、HF、NH₃等多种强腐蚀性酸碱废气，必须进行高效处理。

针对这一挑战，天得一采用自主研发的水洗设备（Wet Scrubber）。该设备通过专业设计使废气与水充分接触，采用多级（六级及以上）水洗室进行综合吸收，净化效率可达99%以上。该设备在泛半导体行业中，常用于单独处理酸碱废气，或作为后端处理单元，高效去除燃烧式设备处理废气后产生的SiO₂、HF等二次污染物。

1. 高效：采用六级喷淋水洗室+一级综合除雾室，净化效率可高达99%；
2. 自动化：设备配置西门子PLC人机界面，自动/手动两种运行模式；
3. 节能低碳运行：设备运行电耗低、废水量少，符合绿色低碳的运营目标；
4. 耐腐蚀：采用强化防腐设计，具有优良的耐腐蚀性能；
5. 智控孪生赋能：融合数字孪生与集中智制优势，通过感知矩阵、多维交互、场景化智控等技术，实现设备全生命周期深度赋能。

适用于半导体与光伏电池生产的扩散（Diffusion）、低压化学气相沉积（LPCVD）、等离子增强型化学气相沉积（PECVD）、金属有机化学气相沉积（MOCVD）、刻蚀（Etch）、外延（EPI）等关键工序产生的废气治理。