电热水洗设备

产品概述

在半导体与光伏生产的扩散(Diffusion)、化学气相沉积(PECVD/MOCVD)、刻蚀(Etch)、外延(EPI)等关键工序中,会产生H2、SIH4、HCL、TEOS、CO、CH4、C2H6、SiCl₄等多种易燃易爆废气,必须进行高效、稳定的处理。

针对废气的特点,天得一研发电热水洗设备(Heat Wet Scrubber)进行废气处理。电热水洗设备是传统湿式洗涤技术的一种高级演进,专为处理常温下难溶、易结晶或需要特定温度条件才能高效反应的半导体特气而设计。该设备核心原理是先通过电加热高温裂解燃烧废气,然后再通过高效水洗的方式对燃烧产生的尾气进行深度处理,使其达到国家排放标准。电热水洗设备常用于去除1000℃温度内可分解特气成分,对废气的净化效率可高达99.9%。

产品特点

1. 安全稳定:采用自动化控制,进行温度、压力、流量、液位等监测,联动扩撒、调温、降温、报警、停机等多重安全联锁,确保全程受控;
2. 高效净化:针对不同特气定制化设计,净化效率可高达99.9%;
3. 旋流缓冲:设备增加旋流缓冲,过渡温降,防止粉尘堆积;
4. 耐腐蚀:采用强化防腐设计,具有优良的耐腐蚀性能;
5. 智控孪生赋能:融合数字孪生与集中智制优势,通过感知矩阵、多维交互、场景化智控等技术,实现设备全生命周期深度赋能。

技术参数

序号

型号

配电功率

处理流量

处理效率

1

TDY-HWS-600S

11kw

500-800slm

99.9%

2

TDY-HWS-1500S

15kw

800-2000slm

99.9%

3

TDY-HWS-3000S

20kw

2000-4000slm

99.9%

应用领域

适用于半导体与光伏生产的扩散(Diffusion)、化学气相沉积(PECVD/MOCVD)、刻蚀(Etch)、外延(EPI)等关键工序中,产生H2、SIH4、HCL、TEOS、CO、CH4、C2H6、SiCl₄等多种易燃易爆废气治理。